1. Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. ) Michael A.(,Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Library and Documentation Center of Kurdistan University (Kurdistan)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,، Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9
L54
]
CD
[
2. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry-- Industrial applications
۳ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
3. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: Central Library and Documents Center of Industrial University of Khaje Nasiredin Toosi (Tehran)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005